技術(shù)文章
半導(dǎo)體晶圓制造過程中,超純水的純度要求極-致嚴苛,水中痕量有機碳殘留會吸附在晶圓表面,影響光刻、蝕刻等關(guān)鍵工藝,直接導(dǎo)致芯片良率下降。我們的TOC分析儀(電導(dǎo)率法),以ppb級高靈敏度檢測能力,專為半導(dǎo)體超純水監(jiān)測打造,精準捕捉痕量有機碳,為半導(dǎo)體精密制造保駕護航。

極-致靈敏度,捕捉痕量隱患。半導(dǎo)體超純水對TOC含量要求極-高,通常需控制在1ppb以下。我們的分析儀檢測范圍覆蓋0.001mg/L~1.600mg/L(1ppb~1600ppb),示值誤差僅±5%,重復(fù)性RSD≤2%,能精準捕捉超純水中的痕量有機碳,遠超行業(yè)監(jiān)測標準。采用雙波長高效氧化技術(shù),185nm+254nm紫外燈產(chǎn)生強氧化性自由基,確保有機物徹-底氧化,結(jié)合差值電導(dǎo)率檢測,徹-底消除無機碳干擾,每一組數(shù)據(jù)都精準可靠。

掃碼加微信